भौतिक वाष्प जमाव मशीन

भौतिक वाष्प जमाव मशीन

भौतिक वाष्प जमाव (भौतिक वाष्प जमाव, पीवीडी) तकनीक भौतिक तरीकों के उपयोग को संदर्भित करती है अंडरवैक्यूम स्थितियों, सामग्री स्रोत - ठोस या तरल सतह को गैसीय परमाणुओं, अणुओं में वाष्पीकृत किया जाता है या आंशिक रूप से आयनों में आयनित किया जाता है, और कम दबाव वाली गैस से पारित किया जाता है ( या प्लाज्मा)। ) प्रक्रिया, सब्सट्रेट की सतह पर एक विशेष कार्य के साथ एक पतली फिल्म जमा करने की तकनीक। भौतिक वाष्प जमाव की मुख्य विधियाँ वैक्यूम वाष्पीकरण, स्पटरिंग कोटिंग, आर्क प्लाज्मा कोटिंग, आयन कोटिंग और आणविक बीम एपिटॉक्सी हैं। अब तक, भौतिक वाष्प जमाव तकनीक न केवल धातु की फिल्मों, मिश्र धातु की फिल्मों, बल्कि यौगिकों, सिरेमिक, अर्धचालक, बहुलक फिल्मों आदि को भी जमा कर सकती है। यह लेख पतली फिल्मों को जमा करने के तीन सामान्य तरीकों का परिचय देता है, जिनमें शामिल हैं: वैक्यूम वाष्पीकरण, मैग्नेट्रोन स्पटरिंग, और चाप आयन चढ़ाना/निक्षेपण, जो सभी भौतिक वाष्प चरण से संबंधित हैं। बयान (पीवीडी)।

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