क्षैतिज ग्लास पाउडर कोटिंग मशीन

एक घर्षण सबसे पहले "सर-फेस" होता है।

एक घर्षण "सतह" की स्थितियों से प्रभावित होता है। ऐसी घटना में सतह का बहुत महत्वपूर्ण अर्थ है। यदि हम माल की एकमात्र सतह को कठिन बना सकते हैं, तो हम घर्षण को कम कर सकते हैं, उपकरण काटने के उपकरण जीवन का विस्तार कर सकते हैं, पंच / मर सकते हैं, भाग। यदि हम माल की एकमात्र सतह को अधिक स्नेहक बना सकते हैं, तो हम चिपके रहने से बच सकते हैं, ऊर्जा दक्षता में सुधार कर सकते हैं।

पीवीडी ऐसी कोटिंग तकनीक है जो औजारों पर कुछ माइक्रोन हार्ड फिल्म बनाती है। पीवीडी की कठोरता टंगस्टन कार्बाइड सुपर-हार्ड सामग्री से अधिक है। हार्ड-क्रोमियम, नाइट्राइडिंग की तुलना में, पीवीडी फिल्म बहुत कठिन है। केवल कुछ माइक्रोन फिल्म नाटकीय रूप से विरोधी पहनने की संपत्ति में सुधार करती है।

क्योंकि मोटाई कुछ माइक्रोन है, हम बहुत सटीक सटीकता की आवश्यकता वाले एप्लिकेशन को छोड़कर आयाम बदलने वाली समस्याओं से बच सकते हैं।

इसके अलावा, SKH, SKD जैसे उच्च तापमान वाले तड़के वाले स्टील की कठोरता कम नहीं होती है क्योंकि कोटिंग तापमान 450 डिग्री पर नियंत्रित होता है। हमारी पीवीडी कोटिंग सेवा को निम्नलिखित तालिका के रूप में चार प्रकार की फिल्म के बीच चुना जा सकता है। हमारे इंजीनियर सलाह देंगे कि आपके आवेदन पर कौन सी फिल्म सबसे उपयुक्त है।

फिल्म कोटिंगउपकरण सामग्री उपयुक्तउपकरण कोट अस्थायी रंग

टिनकार्बाइड, एचएसएस जनरल 450 डिग्री गोल्ड

टीआईसीएनकार्बाइड, एचएसएस पंच / डाई 450 डिग्री ब्राउन

तियानकार्बाइड, एचएसएस जनरल, एचओबी 450 डिग्री ब्लैक

सीआरएनकार्बाइड, एचएसएस डाई 450 डिग्री सिल्वर

डीएलसीएल्युमिनियम के लिए कार्बाइड, एचएसएस टूल 200-300 डिग्री ब्लैक

एसीएक्सकैबाइड, एचएसएस ड्राईकटिंग टूल्स

उच्च तापमान मर जाता है

/मोल्ड्स 480 डिग्री सिल्वरब्लैकक्षैतिज ग्लास पाउडर कोटिंग मशीन के स्पटरिंग और वाष्पीकरण कोटिंग के बीच का अंतर

कई प्रकार के कोटिंग उपकरण हैं, और विभिन्न उपकरणों के बीच अलग-अलग अंतर हैं। स्पटरिंग और वाष्पीकरण कोटिंग के बीच अंतर निम्नलिखित है।

मुक्त कणों या आयनों के रूप में वाष्पीकरण ताप लक्ष्य सतह घटकों को वाष्पित किया जाता है और सब्सट्रेट सतह पर संसाधित किया जाता है, और फिल्म निर्माण प्रक्रिया (योनि तंत्रिका संरचना स्तरित विकास की बिखरने-द्वीप संरचना) एक पतली फिल्म बनाती है।

वाष्पीकरण कोटिंग संरचना की एकरूपता की गारंटी देना आसान नहीं है, और विशिष्ट कारकों के साथ नियंत्रित किया जा सकता है, लेकिन सीमित सिद्धांतों के कारण, गैर-एकल-घटक कोटिंग्स के लिए, वाष्पीकरण कोटिंग संरचना की एकरूपता अच्छी नहीं है। स्पटरिंग को केवल लक्ष्य पर बमबारी करने के लिए इलेक्ट्रॉनों या उच्च-ऊर्जा लेजर के उपयोग के रूप में समझा जा सकता है, ताकि फिल्म बनाने की प्रक्रिया, अनुभव और अंत एक पतली फिल्म का निर्माण। वैक्यूम कोटर के लिए उपकरण स्पटरिंग को कई प्रकारों में विभाजित किया जाता है, जहां स्पटरिंग दर भिन्न होती है और वाष्पीकरण एक प्रमुख पैरामीटर बन जाएगा।

लेजर स्पटर पीएलडी स्पटर कोटिंग्स की संरचनागत एकरूपता को बनाए रखना आसान है, और परमाणु पैमाने पर मोटाई एकरूपता खराब है (स्पंदित स्पटरिंग के कारण), और क्रिस्टलोग्राफिक ओरिएंटेशन (आउट-ऑफ-) विकास का नियंत्रण भी अधिक सामान्य है।

उपरोक्त कोटिंग उपकरण के स्पटरिंग और वाष्पीकरण कोटिंग के बीच का अंतर बताता है। विभिन्न उपकरणों के अलग-अलग फायदे और नुकसान हैं। आप इसे अपनी स्थिति के अनुसार खरीद सकते हैं।

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